【資料名稱】：mos指標研究及分析

【資料作者】：AA

【資料日期】：2012-1-1

【資料語言】：中文

【資料格式】：ppt

【資料目錄和簡介】：

本次MOS優(yōu)化優(yōu)化從DT測試入手、結(jié)合網(wǎng)管KPI、網(wǎng)絡結(jié)構分析等，從多角度深度分析路測中影響MOS值得分的各種因素：
1、半速率使用占比是基礎
2、切換優(yōu)化是根本
3、提升話音質(zhì)量是重要手段
針對各種影響因素通過優(yōu)化半速率占比、優(yōu)化相關切換參數(shù)、處理質(zhì)差路段等措施提升DT測試指標，從參數(shù)優(yōu)化結(jié)果來看，MOS值和MOS值3.0以上占比提升效果非常明顯，MOS均值從優(yōu)化前3.28提升到3.75，提高了0.47，MOS值3.0以上占比從優(yōu)化前的84.63%提升到了91.29%，提高了6.66%,給用戶帶來了更好的語音通話感受。
由于專項工作時間限制，提升MOS的優(yōu)化手段還有很多值得深入研究，如AMR功能使用、TFO功能開展以及下行功控的推廣，這需要大量的時間與精力進行實地測試與分析，這需要我們在日常的優(yōu)化工作中進一步研究。