1.FinFET工藝相比傳統(tǒng)工藝復(fù)雜度大大提升,設(shè)計規(guī)則增多30%左右,并且還要克服離子污染帶來的硅純度不穩(wěn)定和金屬互聯(lián)的不確定威脅。同時也需要廠商在28nm、20nm制程工藝上有很好的積淀。 2.我們知道臺積電在16nm FinFET+之前也擁有一個早期版本,也就是說現(xiàn)有臺積電16nm FinFET+工藝和三星14nm FinFET LPP工藝屬于同一代產(chǎn)品,而臺積電早期16nm FinFET版本鮮有產(chǎn)品推出并不被我們所熟知。從這一點上來看,如果蘋果A9處理器能夠更新采用三星14nm FinFET LPP工藝相信性能和功耗將有所改進(jìn)。所以我們也并不需要過于擔(dān)心三星工藝、臺積電工藝的差別。兩者之前的確存在很多差異化的指標(biāo),但最終呈獻(xiàn)給我們消費者的表現(xiàn)應(yīng)該是大致相同的。
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