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10nm快登場(chǎng) 還沒(méi)弄懂手機(jī)處理器工藝嗎
mao_mao
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鎵嬫満鍙風(fēng)爜宸查獙璇? style=


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發(fā)表于 2016-03-09 08:38:16  只看樓主 
  最近看科技新聞,經(jīng)?吹10nm、7nm處理器工藝最新報(bào)道,14/16nm才經(jīng)歷了兩代產(chǎn)品的更替,不禁概嘆芯片制程的發(fā)展日新月異。一直以來(lái)的半導(dǎo)體行業(yè),尤其是處理器的工藝制程和架構(gòu)都是技術(shù)宅所關(guān)心的內(nèi)容。其中,在工藝改進(jìn) 驍龍820比驍龍810提升了啥也有系統(tǒng)性地介紹過(guò)很多和芯片工藝制程相關(guān)的知識(shí),但是當(dāng)時(shí)只是提到28nm、20nm這些概括性的時(shí)間節(jié)點(diǎn),其實(shí)同為28nm制程,不同芯片廠商之間會(huì)有不同的工藝分類,即使是同一家廠商,也會(huì)細(xì)分為高性能和低能耗的制造工藝,今天我們就來(lái)聊聊那些FinFET、3D FinFET、HPM等不明覺(jué)厲的行業(yè)術(shù)語(yǔ)。之前在Plus/Note/Pro 智能機(jī)這些后綴都啥意思介紹過(guò)Plus、Pro、Prime、Pure這些那么相似的后綴具體是什么意思,今天我們也來(lái)看看HPM、HP、HPC+、 HPC、HPL這些形似神不似的專業(yè)術(shù)語(yǔ)究竟有什么區(qū)別?

10nm快登場(chǎng) 還沒(méi)弄懂手機(jī)處理器工藝嗎


  下文內(nèi)容和芯片制造業(yè)相關(guān),所以先和各位讀者回顧一下三種不同的芯片廠商:IDM、Fabless、Foundry。IDM就是指Intel和三星這種擁有自己的晶圓廠,能夠一手包辦IC設(shè)計(jì)、芯片制造、芯片封裝、測(cè)試、投向消費(fèi)者市場(chǎng)五個(gè)環(huán)節(jié)的廠商。Fabless則是指有能力設(shè)計(jì)芯片架構(gòu),但是卻沒(méi)有晶圓廠生產(chǎn)芯片,需要找代工廠代為生產(chǎn)的廠商,知名的有Qualcomm、蘋(píng)果和華為。代工廠(Foundry)則是大名鼎鼎的臺(tái)積電和 GlobalFoundries。
  預(yù)備知識(shí)聊完了,接著我們看看從55nm開(kāi)始一直回顧到如今的14/16nm節(jié)點(diǎn),看看都有哪些經(jīng)典的處理器工藝分類出現(xiàn)過(guò)。PS:由于每個(gè)節(jié)點(diǎn)的工藝分類都比較多,所以下文以智能手機(jī)處理器為主。
  不同工藝節(jié)點(diǎn)的工藝分類詳解
  55nm
  在55nm節(jié)點(diǎn),對(duì)智能手機(jī)而言,臺(tái)積電ULP(Ultra low power)工藝分類值得一說(shuō),在40/45nm和28nm,臺(tái)積電都有保留這種工藝分類。
  采用55nm的ULP工藝,代表作有Nvidia顯卡中GPU核心:G200b和G92b
  40/45nm
  在40/45nm節(jié)點(diǎn),臺(tái)積電三種比較常見(jiàn)工藝分類,分別為L(zhǎng)P(低耗電)、G(通用)和ULP(Ultra low power)。LP工藝我們放在下面28/32nm中一起講,因?yàn)樵摴に嚬?jié)點(diǎn)的處理器會(huì)多一點(diǎn)。
  在工藝改進(jìn) 驍龍820比驍龍810提升了啥一文中我們已經(jīng)說(shuō)過(guò),臺(tái)積電在40/45nm工藝節(jié)點(diǎn)能夠同時(shí)生產(chǎn)出同一代兩種制程的芯片,這是比較特別的。
  45nm代表處理器:驍龍S2和驍龍S3
  40nm代表處理器:MT657x和Tegra2(全球首顆雙核手機(jī)處理器)、Tegra3(全球首顆四核手機(jī)處理器)

當(dāng)年發(fā)熱厲害的HTC One X被Tegra 3坑了


  在45nm節(jié)點(diǎn),還有Intel和三星處理器也是值得一提的,這兩家IDM巨頭廠商很少向外界公布每一代節(jié)點(diǎn)工藝分類,只是簡(jiǎn)單地統(tǒng)稱為HKMG,當(dāng)然HKMG也是一個(gè)可以展開(kāi)來(lái)說(shuō)的關(guān)鍵術(shù)語(yǔ),下文會(huì)介紹。
  Intel在45nm的代表有兩代不同架構(gòu)的PC處理器:Penryn和Nehalem,Penryn是Core架構(gòu)的工藝改進(jìn)版,Nehalem則是 全新的架構(gòu),這也是符合Tick-Tock定律的演進(jìn)。Nehalem架構(gòu)進(jìn)一步對(duì)Core Microarchitecture進(jìn)行了擴(kuò)展,這一代架構(gòu)歷史低位相比Core架構(gòu)同樣重要,引入第三級(jí)緩存(L3 Cache)和QPI總線提高CPU整體工作效率,同時(shí)將內(nèi)存控制器(IMC)整合到CPU,提高CPU集成度,當(dāng)然還有重新回歸的超線程(多線程)技 術(shù),配合Intel歷史上首次出現(xiàn)四核心處理器,定位最高的i7處理器能夠?qū)崿F(xiàn)四核心八線程的運(yùn)算能力。
  三星在45nm的代表作則有Exynos 3110、Exynos 4210、蘋(píng)果A4和蘋(píng)果A5/A5X。

一代經(jīng)典iPhone 4(蘋(píng)果A4處理器)


  28/32nm
  時(shí)間來(lái)到了移動(dòng)處理器(特指手機(jī)處理器)最為經(jīng)典的一代制程節(jié)點(diǎn)——28/32nm。主要是整個(gè)行業(yè)負(fù)責(zé)生產(chǎn)手機(jī)處理器的廠商停留在28nm節(jié)點(diǎn)的時(shí)間 過(guò)長(zhǎng),除了Intel在PC處理器上率先越過(guò)28/32nm節(jié)點(diǎn),GlobalFoundries、三星、臺(tái)積電等廠商基本上都受制于技術(shù)瓶頸,將28 /32nm工藝制程連用了幾代處理器。
  GlobalFoundries由于縮寫(xiě)為“GF”,所以被業(yè)界戲稱“女朋友”,“女朋友”和 AMD一直走得比較近,加上和AMD曾經(jīng)有著血緣關(guān)系,導(dǎo)致如今主要客戶基本上都是AMD,在28/32nm節(jié)點(diǎn)上,“女朋友”一共出現(xiàn)了HPP、HP、 SLP(都是28nm)和SHP(32nm)四種主要工藝分類。由于和手機(jī)處理器關(guān)系不大,這里不展開(kāi)介紹了。
  臺(tái)積電方面,在這一代制程節(jié)點(diǎn),出現(xiàn)了HP和LP兩大類的工藝分類。
  HP(High Performance):主打高性能應(yīng)用范疇。
  LP(Low Power):主打低功耗應(yīng)用范疇。
  為了滿足不同客戶需求,HP內(nèi)部再細(xì)分HPL、HPC、HPC+、HP和HPM五種分類,下面小編將它們的縮寫(xiě)還原成全稱,看到全稱之后,讀者應(yīng)該不難理解它們的含義。
  先來(lái)插入一條備注,在工藝制程領(lǐng)域,我們常常討論“漏電”一詞,簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō),就是指伴隨著工藝制程提高,CPU集成更多的晶體管,二氧化硅絕緣層變得更薄,從而導(dǎo)致電流泄漏。
  電流泄漏最大問(wèn)題就是增加了芯片的功耗,為晶體管本身帶來(lái)額外的發(fā)熱量,還會(huì)導(dǎo)致電路錯(cuò)誤,CPU為了解決信號(hào)模糊問(wèn)題,又不得不提高核心電壓,綜上所述,漏電率越低,對(duì)CPU整體性能表現(xiàn)和功耗控制更加有利。下面我們看看HP這五種工藝分類在性能和漏電上表現(xiàn)如何?
  HPL(High-Perf Low-Leakage):漏電率雖然低,但是性能上表現(xiàn)卻不高。當(dāng)年Nvidia的Tegra 4處理器,為了控制驚人的功耗和發(fā)熱,不得不使用HPL這種工藝分類,無(wú)奈最終還是壓制不住自身的發(fā)熱,被迫將主頻限制在比較低的運(yùn)行狀態(tài),搭載了高頻版 Tegra 4的Nvidia Shield掌機(jī)只能夠通過(guò)主動(dòng)散熱(內(nèi)部安裝風(fēng)扇)解決問(wèn)題。

小米手機(jī)3率先開(kāi)售的移動(dòng)版(采用Tegra 4處理器)


  HP(High Performance):雖然性能比較強(qiáng),但是漏電率不低,僅限生產(chǎn)PC上處理器和顯卡中CPU/GPU等高性能部件,對(duì)于手機(jī)處理器并不適合。
  HPM(High-Perf Mobile):為了更好地優(yōu)化HP這種工藝,將其移植到手機(jī)處理器上,臺(tái)積電推出了HP工藝升級(jí)版——HPM,漏電率稍微比HPL高一點(diǎn),但是性能上卻 超越了HP,成為目前臺(tái)積電在28nm制程節(jié)點(diǎn)上最受歡迎的工藝分類。代表作有:驍龍800系列,主要是驍龍800、驍龍801和驍龍805,還有最新的 驍龍600系列兩款新品——驍龍652和驍龍650。聯(lián)發(fā)科方面則有Helio X10、MT6752、MT6732、MT6592、MT6588經(jīng)典產(chǎn)品。華為P8上面的麒麟930和Nvidia的Tegra K1也是采用了HPM工藝分類。

華為P8(麒麟930)


  上文提到的LP工藝分類,雖然在漏電率和性能上都不占優(yōu)勢(shì),但是卻因?yàn)槌杀镜,而且出現(xiàn)時(shí)間比較早,技術(shù)比較成熟,所以驍龍400和驍龍600系列的中 低端處理器都十分喜歡使用這種工藝分類,包括昔日的驍龍615、驍龍410,現(xiàn)在唱主角的驍龍616和驍龍617以及即將到來(lái)的驍龍425、驍龍430和 驍龍435。聯(lián)發(fā)科方面也是,MT6753和MT6735這兩顆全網(wǎng)通的芯片采用了LP這種工藝打造。特別說(shuō)明的是,它們倆的上一代產(chǎn)品MT6752和 MT6732則是采用了HPM這種更高等級(jí)的工藝分類,不過(guò)不支持全網(wǎng)通。相比之下,上述提到的驍龍400和驍龍600系列處理器基本上已經(jīng)全面普及三網(wǎng) 通吃。
  HPC(High Performance Compact)和HPC+(High Performance Compact Plus)則是臺(tái)積電最近兩三年才興起的兩種新工藝,后者代表作為聯(lián)發(fā)科最新中端級(jí)別處理器Helio P10。 HPC+相比HPC在同等漏電率下性能提升15%,換句話說(shuō),在同等性能下功耗降低30-50%。

金立S8(Helio P10)


  20/22nm
  無(wú)論是PC還是手機(jī)處理器,這個(gè)工藝節(jié)點(diǎn)的芯片很快就退出了歷史舞臺(tái),被14/16nm處理器搶占市場(chǎng)。PC領(lǐng)域的Intel雖然很早就量產(chǎn)了這個(gè)節(jié)點(diǎn) 的處理器,但是因?yàn)門ick-Tock定律的驅(qū)使,使用了兩代處理器(IvyBridge和Haswell)就開(kāi)始進(jìn)入14/16nm時(shí)代。由于對(duì)手 AMD的工藝制程(28/32nm)停滯不前,加上光刻技術(shù)并沒(méi)有取得重大突破,同時(shí)如今PC市場(chǎng)也并不需要換代換得那么頻繁,多方面因素作用下,最終讓 Intel的“Tick-Tock”定律在14/16nm這一代節(jié)點(diǎn)上慢下來(lái),更加襯托出20/22nm這一代產(chǎn)品持續(xù)時(shí)間并不長(zhǎng)。
  手 機(jī)處理器方面也一樣,20/22nm制程節(jié)點(diǎn)上,臺(tái)積電用了足足幾年時(shí)間才克服漏電率和產(chǎn)能的問(wèn)題,直到如今還依然不能夠全面供貨給Nvidia、 AMD、Qualcomm、聯(lián)發(fā)科這些昔日的合作伙伴,據(jù)外媒報(bào)道,臺(tái)積電對(duì)外宣傳指20nm的SoC并不適合用在PC領(lǐng)域的芯片上,所以顯卡領(lǐng)域才那么 久沒(méi)有更新20nm制程,停留在28nm那么多年。事實(shí)是否如此?誰(shuí)知道呢?Qualcomm和聯(lián)發(fā)科能夠用上20nm的處理器也屈指可數(shù),驍龍810、 驍龍808和命途多舛的Helio X20。外界也有聲音稱20nm的SoC漏電率一直很嚴(yán)重,導(dǎo)致Qualcomm和聯(lián)發(fā)科兩位客戶一直都不太滿意,但是蘋(píng)果A8和蘋(píng)果A8X很早就用上了 臺(tái)積電20nm SoC工藝,也沒(méi)見(jiàn)iPhone 6和iPhone 6 Plus上面出現(xiàn)什么致命的功耗發(fā)熱問(wèn)題,別有內(nèi)情吧,呵呵!

全球首款搭載驍龍808智能機(jī)——LG G4


  三星在20/22nm上兩款經(jīng)典處理器為Exynos 5430和Exynos 7(7410),也就是分別搭載在三星Galaxy Alpha和三星Note 4上面的兩顆處理器,三星也是從這個(gè)時(shí)候開(kāi)始趕上臺(tái)積電和Intel,不久后和臺(tái)積電、Intel同時(shí)邁進(jìn)14/16nm工藝制程節(jié)點(diǎn)。

三星Note 4(Exynos 7系處理器)


  值得一提的是,在20/22nm工藝節(jié)點(diǎn)上,Intel引入了3D FinFET這種技術(shù),三星和臺(tái)積電在14/16nm節(jié)點(diǎn)上也大范圍用上了類似的FinFET技術(shù)。下面我們統(tǒng)稱為FinFET。
  FinFET(Fin Field-Effect Transistor)根據(jù)百度百科定義,稱為鰭式場(chǎng)效應(yīng)晶體管,是一種新的互補(bǔ)式金氧半導(dǎo)體(CMOS)晶體管。以前也和各位讀者介紹過(guò),其實(shí)就是把芯 片內(nèi)部平面的結(jié)構(gòu)變成了3D,降低漏電率同時(shí)又能夠增加晶體管空間利用率,當(dāng)然,實(shí)際情況比較復(fù)雜,這里不詳細(xì)展開(kāi)了。
  14/16nm
  由于上文提到的歷史原因,20/22nm并沒(méi)有什么工藝分類,很快就被14/16nm取代了,臺(tái)積電采用了16nm,三星和Intel采用了14nm。
  Intel的Broadwell、Skylake和Kaby Lake(將會(huì)延期上市)三代PC處理器架構(gòu)都采用了14nm工藝。
  三星已經(jīng)發(fā)展了兩代14nm工藝,第一代就是用在Exynos 7420和蘋(píng)果A9上面的FinFET LPE(Low Power Early),第二代則是用在Exynos 8890、驍龍820和發(fā)布不久的驍龍625上面的FinFET LPP(Low Power Plus)。

樂(lè)Max Pro(全球首款搭載驍龍820手機(jī))


  臺(tái)積電經(jīng)歷了20/22nm的挫折之后,在16nm節(jié)點(diǎn)雄起,不知不覺(jué)發(fā)布了三種工藝分類,最早出現(xiàn)在蘋(píng)果A9上面的是第一代FinFET,接著就是麒 麟950上面FF+(FinFET Plus)和近日發(fā)布的Helio P20上面搭載的FFC(FinFET Plus Compact)。

華為Mate 8(麒麟950)


  至此,本文關(guān)于工藝分類的內(nèi)容已經(jīng)介紹完畢,接著解決一下上文的一些尾巴,簡(jiǎn)單補(bǔ)充說(shuō)明一些術(shù)語(yǔ)。
  兩種柵極結(jié)構(gòu)和兩種柵極工藝區(qū)別
  HKMG和poly/SiON
  HKMG全稱:金屬柵極+高介電常數(shù)絕緣層(High-k)柵結(jié)構(gòu)
  poly/SiON全稱:多晶硅柵+氮氧化碳絕緣層的柵極結(jié)構(gòu)
  我們可以簡(jiǎn)單地理解為HKMG技術(shù)更加先進(jìn),而poly/SiON技術(shù)已經(jīng)出現(xiàn)了很久,技術(shù)上相對(duì)落后。臺(tái)積電在40nm節(jié)點(diǎn)的G(通用)工藝分類上就是采用了這種柵極結(jié)構(gòu)。40nm和28nm節(jié)點(diǎn)下的LP工藝(主打低功耗)分類也是采用了這種柵極結(jié)構(gòu)。
  上文提及臺(tái)積電目前處于28nm那些(5種)HP工藝(主打高性能)分類基本上全面普及了更為先進(jìn)的HKMG柵極結(jié)構(gòu)。
  前柵極工藝和后柵極工藝
  前柵極工藝和后柵極工藝,其實(shí)是制造HKMG柵極結(jié)構(gòu)的兩種分支工藝,前者由IBM做主導(dǎo),三星和GlobalFoundries兩家廠商采用HKMG 柵極結(jié)構(gòu)制造的芯片,一般都會(huì)選擇前柵極工藝。后者則由Intel主導(dǎo),臺(tái)積電那些一大波的28nm工藝技術(shù)基本上都是這個(gè)分支。最簡(jiǎn)單區(qū)分就是,臺(tái)積電 28nm節(jié)點(diǎn)的芯片分為HP和LP兩種不同的大類型,HP再細(xì)分其它小類型。HP(主打高性能)這個(gè)大類的芯片基本上都是采用后柵極工藝制造的HKMG柵 極結(jié)構(gòu),LP(主打低功耗)這個(gè)大類的芯片則是采用了前柵極工藝制造的HKMG柵極結(jié)構(gòu)。

前柵極工藝和后柵極工藝對(duì)應(yīng)工藝分類有哪些


  那么兩種柵極工藝之間有什么區(qū)別呢?由于不是本文重點(diǎn),為了節(jié)省篇幅,我們不去探究原理,只記住結(jié)論,擁有用后柵極工藝制造的HKMG柵極結(jié)構(gòu)的芯片, 具有功耗更低和漏電更少的優(yōu)勢(shì),從而讓高頻運(yùn)行狀態(tài)更加穩(wěn)定,不會(huì)出現(xiàn)運(yùn)行一段時(shí)間后降頻這種現(xiàn)象。相比前柵極工藝無(wú)疑更加先進(jìn),但是生產(chǎn)制造技術(shù)復(fù)雜、 良品率又低,技術(shù)誕生初期很難做到大規(guī)模量產(chǎn),還需要客戶廠商(例如聯(lián)發(fā)科、Qualcomm、蘋(píng)果、華為等)根據(jù)需求配合修改電路設(shè)計(jì),所以前柵極工藝 在早期更受IDM和Foundry歡迎,后來(lái)隨著Intel和臺(tái)積電工藝逐漸成熟,克服了后柵極工藝的種種問(wèn)題之后,近幾年逐漸取代前柵極工藝成為 HKMG柵極結(jié)構(gòu)的主要制造工藝。
  總結(jié):普通消費(fèi)者對(duì)手機(jī)產(chǎn)品本身比較感興趣,關(guān)注系統(tǒng)運(yùn)行速度,游戲卡不卡,程序兼容性,發(fā)熱和續(xù)航等淺層次用戶體驗(yàn)。
  對(duì)數(shù)碼產(chǎn)品比較感興趣的用戶則會(huì)進(jìn)一步研究為什么系統(tǒng)運(yùn)行速度會(huì)慢,為什么我需要經(jīng)常重啟手機(jī),為什么不清理后臺(tái)系統(tǒng)就會(huì)卡,為什么iOS用起來(lái)就是比Android流暢?

iOS依然是公認(rèn)的流暢性優(yōu)化得比較好的系統(tǒng)


  而對(duì)科技的沉迷早已“病入膏肓”的技術(shù)宅來(lái)說(shuō),在得知處理器、RAM、ROM是影響系統(tǒng)運(yùn)行速度的三項(xiàng)關(guān)鍵要素之后,我們就會(huì)進(jìn)一步研究這三種硬件是如 何配合,并共同發(fā)揮作用的。在研究期間,技術(shù)宅就會(huì)發(fā)現(xiàn)PC領(lǐng)域和手機(jī)領(lǐng)域很多知識(shí)是共同的,從而方便我們用以往學(xué)到的知識(shí)解釋手機(jī)處理器上的原理。
  舉個(gè)例子,普通消費(fèi)者、數(shù)碼愛(ài)好者和技術(shù)宅一起來(lái)到售后服務(wù)中心,消費(fèi)者和客服經(jīng)理投訴這臺(tái)手機(jī)非常不好用,吵得面紅耳赤之際,來(lái)來(lái)去去就是吐槽系統(tǒng)卡、游戲載入慢、重啟次數(shù)多、經(jīng)常清后臺(tái)這些表層現(xiàn)象。


  數(shù)碼愛(ài)好者就會(huì)分析其實(shí)和處理器、RAM和ROM這些參數(shù)有關(guān),不說(shuō)還好,聽(tīng)完數(shù)碼愛(ài)好者的分析,消費(fèi)者吵得更厲害了,當(dāng)初買這臺(tái)手機(jī)的時(shí)候,宣傳參數(shù)上那豪華的真8核處理器,3GB RAM,64GB ROM都是假的?旗艦級(jí)別的配置就是這種表現(xiàn)?
  數(shù)碼愛(ài)好者進(jìn)一步解釋真8核的定義,這種真8核和另外一款旗艦機(jī)的真8核是不同的,主要是架構(gòu)和工藝制程、工藝分類不同。好吧,數(shù)碼愛(ài)好者本以為能夠平息這場(chǎng)紛爭(zhēng),誰(shuí)知道消費(fèi)者還在糾結(jié)都是28nm,為什么HPM和LP工藝的處理器會(huì)有不同的表現(xiàn)?
  技術(shù)宅是時(shí)候登場(chǎng)了,HPM和LP之間最重要區(qū)別就在性能和漏電率上,HPM在性能上更優(yōu),漏電率也更低,LP則更適合中低端處理器使用,因?yàn)槌杀镜汀?接著還會(huì)通過(guò)硬件監(jiān)控的App進(jìn)一步解釋類似問(wèn)題,同樣是8核處理器,運(yùn)行大型游戲的時(shí)候,有的處理器受制于架構(gòu)、工藝制程、工藝分類落后,在玩得興高采 烈之際突然降頻、關(guān)閉部分核心,這個(gè)時(shí)候系統(tǒng)自然就開(kāi)始卡了。監(jiān)控軟件還能夠?qū)崟r(shí)監(jiān)控其溫度變化,進(jìn)一步告知消費(fèi)者為什么手機(jī)會(huì)自動(dòng)重啟或者通過(guò)死機(jī)方式讓手機(jī)內(nèi)部溫度降下來(lái)。
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