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本文檔主要對(duì)eICIC的功能概述、技術(shù)描述、參數(shù)配置、相關(guān)計(jì)數(shù)器,KPI統(tǒng)計(jì),告警,功能驗(yàn)證等內(nèi)容進(jìn)行描述。
本文中的、參數(shù)、告警和性能指標(biāo)與本文檔發(fā)布時(shí)的最新軟件版本一致。如需獲取當(dāng)前軟件版本的MO、參數(shù)、告警和性能指標(biāo)信息,請(qǐng)參考隨當(dāng)前版本配套發(fā)布的產(chǎn)品文檔。
本文檔適用于LTETDD,文中提及的全稱“LTE”或“eNodeB”均指LTE TD)制式。
傳統(tǒng)的蜂窩網(wǎng)技術(shù)具有“重室外,輕室內(nèi)”,“重蜂窩組網(wǎng),輕孤立熱點(diǎn)”,“重移動(dòng)性切換,輕固定游牧”等特點(diǎn),以及宏小區(qū)選址和工程施工越來(lái)越困難,施工成本越來(lái)越高等客觀因素,使得基站設(shè)備的小型化、低功耗、可控性和智能化逐漸成為主流趨勢(shì)。業(yè)界引入一系列小型化的基站設(shè)備和技術(shù),包括Femto cell、Pico cell、Micro cell等,統(tǒng)稱為Small cell,可用于補(bǔ)盲宏基站信號(hào)微弱的區(qū)域,室內(nèi)覆蓋、室外熱點(diǎn)覆蓋等多種場(chǎng)景,用于提升系統(tǒng)吞吐量,增強(qiáng)傳統(tǒng)蜂窩網(wǎng)絡(luò)在室內(nèi)、熱點(diǎn)等場(chǎng)景下的用戶體驗(yàn)。
為此,運(yùn)營(yíng)商通過(guò)構(gòu)建立體分層的異構(gòu)(HetNet)網(wǎng)絡(luò),來(lái)應(yīng)對(duì)未來(lái)數(shù)據(jù)流量增加需求應(yīng)運(yùn)而生。異構(gòu)(HetNet)網(wǎng)絡(luò)是一種顯著提升系統(tǒng)吞吐量和網(wǎng)絡(luò)整體效率的技術(shù),其基本思想就是將小型化、低功耗的節(jié)點(diǎn)(small cell)部署在宏小區(qū)覆蓋區(qū)域內(nèi),形成同覆蓋的不同節(jié)點(diǎn)類型的異構(gòu)系統(tǒng),是一張包含宏蜂窩、微蜂窩、室外和室內(nèi)的大容量數(shù)據(jù)網(wǎng)絡(luò)。
在HetNet同頻組網(wǎng)的場(chǎng)景下,為解決HetNet同頻組網(wǎng)的容量和干擾問(wèn)題,引入了CRE和ABS機(jī)制。CRE機(jī)制,通過(guò)擴(kuò)大偏置參數(shù)的方法,可以擴(kuò)大Small Cell的覆蓋范圍,分擔(dān)宏小區(qū)負(fù)荷,從而提升系統(tǒng)的容量。
由于CRE功能,只是調(diào)整了小區(qū)重選或切換偏置參數(shù),終端的發(fā)射功率不變。此時(shí)對(duì)于處于Pico小區(qū)邊緣特別是處于CRE區(qū)域下的UE而言,來(lái)自Macro Cell的信號(hào)可能高于Pico Cell的信號(hào)強(qiáng)度,但由于Bias功能限制,UE仍不會(huì)切換到Macro Cell中,這樣Macro Cell就會(huì)對(duì)該UE產(chǎn)生嚴(yán)重的下行干擾。
對(duì)此,需要引入增強(qiáng)的小區(qū)干擾消除方法以降低宏微之間的小區(qū)干擾。由于Rel-8/9中的ICIC方法不能解決控制信道的干擾,因此,針對(duì)HetNet下的宏微干擾,Rel-10/11中引入了一種基于時(shí)域的干擾協(xié)調(diào)技術(shù)eICIC,其核心思想是引入近似空白子幀(ABS,Almost Blank Subframe)進(jìn)行干擾協(xié)作。在eICIC中通過(guò)對(duì)干擾小區(qū)(以Macro-Pico場(chǎng)景為例,Macro為干擾小區(qū))部分子幀上不發(fā)送業(yè)務(wù)信息的方法(即ABS子幀的配置)來(lái)達(dá)到降低對(duì)被干擾小區(qū)(Pico)干擾的目的。
進(jìn)一步的,由于下行子幀被配置為ABS子幀(如下行子幀n),則該子幀上不發(fā)送上行業(yè)務(wù)調(diào)度信息(如DCI format 0/1A/4),則在n+4的上行子幀上沒(méi)有對(duì)應(yīng)沒(méi)有上行業(yè)務(wù)信道發(fā)送,從而避免了宏微上行業(yè)務(wù)信道的干擾。
eICIC功能主要用于宏微場(chǎng)景下的干擾問(wèn)題,涉及到以下關(guān)鍵技術(shù)點(diǎn),詳細(xì)描述參見(jiàn)第3章相關(guān)章節(jié)技術(shù)描述:
Ø 小區(qū)覆蓋擴(kuò)展(CRE)
Ø ABS pattern的靜態(tài)和動(dòng)態(tài)配置
Ø 宏小區(qū)基于ABS用戶調(diào)度
Ø 微小區(qū)基于ABS針對(duì)小區(qū)不同區(qū)域用戶的調(diào)度
Ø 宏微ABSpattern協(xié)同
Ø 宏小區(qū)相關(guān)測(cè)量限制級(jí)配置
Ø 微小區(qū)相關(guān)測(cè)量限制集配置
[[i] 本帖最后由 天朝八百萬(wàn)基佬 于 2018-5-29 06:55 編輯 [/i]]