ALD

詞語解釋 | 本詞語解釋貢獻(xiàn)者:wx_10274510

ALD（Atomic Layer Deposition）是一種通用的表面技術(shù)，用于在表面上制備單層原子層的薄膜。它可以制備出高度精細(xì)的薄膜，并可以控制膜的厚度和結(jié)構(gòu)。ALD在通信領(lǐng)域的應(yīng)用是制備超薄的介質(zhì)層，用于改善器件的性能。 ALD技術(shù)是一種通過反應(yīng)氣體在表面上分子層層沉積薄膜的技術(shù)，它通過在表面上逐層沉積原子層，從而制備出極薄的膜，其厚度可以達(dá)到幾個原子到幾十個原子。ALD技術(shù)可以制備出高度精細(xì)的薄膜，而且可以控制膜的厚度和結(jié)構(gòu)，因此在通信領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。 ALD技術(shù)可以用來制備介質(zhì)層，它可以改善器件的性能，如提高信號的傳輸速率，抑制噪聲，改善信號的可靠性，延長信號的傳輸距離等。ALD技術(shù)可以用來制備更薄的介質(zhì)層，從而改善器件的性能，如提高信號的傳輸速率，抑制噪聲，改善信號的可靠性，延長信號的傳輸距離等。 ALD技術(shù)還可以用來制備光纖放大器的介質(zhì)層，以提高光纖放大器的性能。ALD技術(shù)可以用來制備超薄的介質(zhì)層，從而提高光纖放大器的增益，降低噪聲，提高信噪比，改善系統(tǒng)的性能。 ALD技術(shù)還可以用來制備通信器件的表面膜，用于改善器件的電磁屏蔽性能。ALD技術(shù)可以制備出高度精細(xì)的膜，其厚度可以達(dá)到幾個原子到幾十個原子，可以改善器件的電磁屏蔽性能，有效地抑制外界的干擾，提高信號的可靠性。總之，ALD技術(shù)在通信領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用，它可以用來制備超薄的介質(zhì)層，用于改善器件的性能，如提高信號的傳輸速率，抑制噪聲，改善信號的可靠性，延長信號的傳輸距離等；可以用來制備光纖放大器的介質(zhì)層，以提高光纖放大器的性能；可以用來制備通信器件的表面膜，用于改善器件的電磁屏蔽性能。

通信電源中ALD電流異常告警Antenna Line Device，電調(diào)天線設(shè)備。

掃碼付費(fèi)即可復(fù)制

ALD

ALD

相關(guān)技術(shù)問答

隨機(jī)推薦詞語