Rapidus 公司成功購(gòu)入并安裝首臺(tái) ASML TWINSCAN NXE:3800E 光刻機(jī)
Rapidus 首席執(zhí)行官、日本政府代表、北海道及千歲市地方政府代表、ASML 高管、荷蘭駐日本大使等相關(guān)人士出席了在北海道新千歲機(jī)場(chǎng)舉行的紀(jì)念儀式。
NXE:3800E 是 ASML EXE 系列 0.33 (Low) NA EUV 光刻機(jī)的最新型號(hào),能夠滿足 Rapidus 首代量產(chǎn)工藝 2nm 的制造需求。該光刻機(jī)與 0.55 (High) NA EXE 平臺(tái)共享部分組件,晶圓吞吐量較前款 NXE:3600D 提升了 37.5%。除了核心的 EUV 光刻機(jī)外,Rapidus 還將在 IIM-1 晶圓廠安裝一系列配套先進(jìn)半導(dǎo)體制造設(shè)備以及全自動(dòng)材料處理系統(tǒng),以實(shí)現(xiàn) 2nm 制程 GAA(全環(huán)繞柵極)結(jié)構(gòu)半導(dǎo)體的生產(chǎn)。
Rapidus 再次確認(rèn) IIM-1 晶圓廠將于 2025 年 4 月啟動(dòng)試產(chǎn),且該晶圓廠所有半導(dǎo)體制造設(shè)備均將采用“單晶圓工藝”。Rapidus 將在該模式下構(gòu)建名為 RUMS(快速和統(tǒng)一制造服務(wù))的新型半導(dǎo)體代工模式。這一舉措將有助于 Rapidus 提升其在全球半導(dǎo)體市場(chǎng)的競(jìng)爭(zhēng)力,并為日本半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展注入新的活力。
隨著半導(dǎo)體技術(shù)的不斷進(jìn)步,EUV 光刻設(shè)備已成為實(shí)現(xiàn)先進(jìn)制程的關(guān)鍵。Rapidus 此次成功購(gòu)入并安裝 ASML TWINSCAN NXE:3800E 光刻機(jī),將為其未來(lái)的發(fā)展奠定堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)。同時(shí),這也將對(duì)日本半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)產(chǎn)生積極的影響,推動(dòng)日本在全球半導(dǎo)體市場(chǎng)的地位進(jìn)一步提升。