蘋(píng)果將在A15芯片中使用臺(tái)積電的5納米技術(shù)

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據(jù)臺(tái)灣工商時(shí)報(bào)報(bào)道,蘋(píng)果今年下半年推出新款iPad及iPhone 12產(chǎn)品線(xiàn),采用自家設(shè)計(jì)的A14系列處理器,其中,iPad Air及iPhone 12全系列都采用A14應(yīng)用處理器,至于即將在11月發(fā)表的Arm架構(gòu)Macbook則會(huì)採(cǎi)用自行研發(fā)的A14X處理器。蘋(píng)果A14以及A14X均已在臺(tái)積電采用5奈米制程量產(chǎn)。

晶圓代工龍頭臺(tái)積電及微影設(shè)備大廠(chǎng)ASML于上周法人說(shuō)明會(huì)透露了更多3奈米細(xì)節(jié)。臺(tái)積電3奈米采用鰭式場(chǎng)效電晶體(FinFET)架構(gòu)及極紫外光(EUV)微影技術(shù),邏輯密度與5奈米相較將大幅增加70%,且EUV光罩層數(shù)將倍增且超過(guò)20層。因此,臺(tái)積電積極采購(gòu)EUV曝光機(jī)設(shè)備,未來(lái)三~五年仍將是擁有全球最大EUV產(chǎn)能的半導(dǎo)體廠(chǎng),包括家登及崇越等供應(yīng)商可望受惠。

臺(tái)積電EUV微影技術(shù)已進(jìn)入量產(chǎn)且制程涵蓋7+奈米、6奈米、5奈米。據(jù)設(shè)備業(yè)者消息,臺(tái)積電7+奈米采用EUV光罩層最多達(dá)四層,超微新一代Zen 3架構(gòu)處理器預(yù)期是采用該制程量產(chǎn)。6奈米已在第四季進(jìn)入量產(chǎn),EUV光罩層數(shù)較7+奈米增加一層,包括聯(lián)發(fā)科、輝達(dá)、英特爾等大廠(chǎng)都將採(cǎi)用6奈米生產(chǎn)新一代產(chǎn)品。

臺(tái)積電下半年開(kāi)始量產(chǎn)5奈米制程,主要為蘋(píng)果量產(chǎn)A14及A14X處理器,包括超微、高通、輝達(dá)、英特爾、博通、邁威爾等都會(huì)在明年之后導(dǎo)入5奈米制程量產(chǎn)新一代產(chǎn)品。5奈米EUV光罩層數(shù)最多可達(dá)14層,所以Fab 18廠(chǎng)第一期至第三期已建置龐大EUV曝光機(jī)臺(tái)設(shè)備因應(yīng)強(qiáng)勁需求,臺(tái)積電明年將推出5奈米加強(qiáng)版N5P制程并導(dǎo)入量產(chǎn),后年將推出5奈米優(yōu)化后的4奈米制程,設(shè)備業(yè)者預(yù)期N5P及4奈米的EUV光罩層數(shù)會(huì)較5奈米增加。

臺(tái)積電在日前的法說(shuō)會(huì)中宣布,3奈米研發(fā)進(jìn)度符合預(yù)期且會(huì)是另一個(gè)重大制程節(jié)點(diǎn),與5奈米制程相較,3奈米的邏輯密度可增加70%,在同一功耗下可提升15%的運(yùn)算效能,在同一運(yùn)算效能下可減少30%功耗。3奈米制程采用的EUV光罩層數(shù)首度突破20層,業(yè)界預(yù)估最多可達(dá)24層。

ASML執(zhí)行長(zhǎng)Peter Wennink在日前法說(shuō)會(huì)中指出,5奈米邏輯制程采用的EUV光罩層數(shù)將超過(guò)10層,3奈米制程采用的EUV光罩層數(shù)會(huì)超過(guò)20層,隨著制程微縮EUV光罩層數(shù)會(huì)明顯增加,并取代深紫外光(DUV)多重曝光制程。

臺(tái)積電5奈米及3奈米的EUV光罩層數(shù)倍數(shù)增加,提供EUV光罩盒(EUV Pod)的家登受惠最大,今、明兩年產(chǎn)能均已被大客戶(hù)預(yù)訂一空。至于EUV產(chǎn)能大幅提高,代理EUV光阻液的崇越接單暢旺,訂單同樣排到明年下半年。


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